CPO概念股,漲勢兇猛!
最近幾個交易日,隨著貿易緊張情緒的緩解,A股科技股持續上行,芯片、光刻機、CPO等方向領漲。今日(10月27日)盤中,上述板塊再度拉升,CPO指數一度漲超4.70%,光刻機板塊一度漲超5%。
截至中午收盤,萬得CPO指數漲幅仍超過4%。其中,新易盛、生益科技、中際旭創、東田微、源杰科技、生益電子等相關概念股在盤中均創出歷史新高。光刻機板塊漲幅接近3%,萬潤股份漲停,晶瑞電材漲超15%。
從整體A股市場來看,滬指震蕩走強,再創十年新高,逼近4000點大關。滬深兩市半日成交額1.57萬億,半日放量超3300億。截至午間收盤,滬指漲1.04%,深成指漲1.26%,創業板指漲1.54%。午后開盤后,A股三大指數繼續保持強勢。
CPO概念股集體大漲
繼上周五大漲5%后,CPO指數今日再度拉升,盤中最高漲幅一度達到4.71%。個股方面,東田微一度觸及20%漲停,仕佳光子一度漲超15%,生益電子一度漲超13%,新易盛一度漲超10%,生益科技漲近10%,景旺電子、華工科技、東山精密、天孚通信、德明利、工業富聯等紛紛跟漲。
當天盤中,近10只CPO概念股的股價創出歷史新高,包括新易盛、生益科技、中際旭創、東田微、源杰科技、生益電子、德明利、環旭電子等。
消息面上,10月24日,中共中央舉行新聞發布會,介紹和解讀黨的二十屆四中全會精神。會上,科技部黨組書記、部長陰和俊表示,中國政府高度重視人工智能,持續營造良好的創新生態,推動人工智能加快發展。
陰和俊表示,下一步,將認真貫徹落實《中共中央關于制定國民經濟和社會發展第十五個五年規劃的建議》要求,持續加強“十五五”人工智能頂層設計和體系化部署。繼續加強基礎研究和關鍵核心技術攻關,聚力開發新的模型算法、高端算力芯片,不斷夯實人工智能發展的技術根基。深入實施“人工智能+”行動,推動人工智能與科技創新、產業發展、消費提質、民生保障等深度融合。
華安證券近日發布的研報指出,四中全會強調全面增強科技自主創新能力,可重點把握科技新一輪成長產業景氣的投資機會。本輪產業周期以AI算力基建為代表,具體可關注泛TMT、算力(CPO/PCB/液冷/光纖)等。開源證券也表示,隨著“十五五”規劃建議提出科技自主可控成為重點工作目標,國產算力板塊有望成為市場主線。同時持續看好AI浪潮下的存儲周期和消費電子的創新周期。
另外,全球算力高景氣度延續。10月23日,Anthropic與谷歌正式宣布價值百億美元的云服務合作協議,預計帶來百萬級谷歌定制TPU芯片,并在2026年帶來預計1GW的AI算力。有分析稱,這一事件凸顯出全球AI算力需求正呈現指數級增長,開發和訓練尖端AI系統的成本急劇飆升,也表明云服務提供商的自研芯片正成為英偉達之外不可忽視的力量。從全球AI算力產業鏈角度看,此次合作進一步強化了“多元算力供應”趨勢。
開源證券認為,上述合作有望提升Claude模型性能的同時,強化Anthropic和谷歌的合作關系,也凸顯TPU芯片的性價比和泛用性。海外各AI模型廠商加強與上下游合作,AI軍備競賽持續,有望持續帶動算力產業鏈需求。
光刻機板塊也大幅異動
光刻機概念股今日盤中也大幅拉升,板塊指數漲幅一度超過5%。截至中午收盤,萬得光刻機指數漲幅仍接近3%。個股方面,萬潤股份漲停,晶瑞電材漲超15%,錦華新材漲近10%,佳先股份、迦南科技漲超8%,南大光電、富創精密等漲超6%,江化微漲幅也接近6%。
消息面上,國家標準委網站顯示,我國首個EUV光刻膠標準——《極紫外(EUV)光刻膠測試方法》作為擬立項標準,10月23日開始公示,截止時間為11月22日。標準的起草單位包括上海大學、張江國家實驗室、上海華力集成電路制造有限公司、上海微電子裝備(集團)股份有限公司。
另據科技日報報道,近日,北京大學彭海琳教授團隊及其合作者,通過冷凍電子斷層掃描技術,首次在原位狀態下解析了光刻膠分子在液相環境中的微觀三維結構、界面分布與纏結行為,分辨率優于5納米。這一發現不僅揭示了光刻膠分子在溶液中的微觀物理化學行為,更指導開發出可顯著減少光刻缺陷的產業化方案,有效清除了12英寸晶圓圖案表面的光刻膠殘留,為提升光刻精度與良率開辟新路徑。
彭海琳表示,光刻是芯片制造中關鍵的步驟之一,通俗理解,光刻就是給半導體晶圓(比如硅片)“印電路”,核心是用超精密“投影儀”把設計好的電路圖案,縮小后印在硅片的特殊薄膜上,再通過沖洗定型。光刻是芯片制造的核心技術之一,更是微納加工領域“皇冠上的明珠”。
顯影液則在電路圖案形成過程中發揮著重要作用。在光刻膠顯影過程中,光刻膠的曝光區域會選擇性地溶解在顯影液的液膜中。液膜中光刻膠分子的吸附與纏結行為,是影響晶圓表面圖案缺陷形成的關鍵因素,進而可直接影響芯片性能和良率。
有券商指出,光刻膠作為半導體、印制電路板、平板顯示等行業的基礎材料,其技術進步可以促進相關產業鏈的協同發展,上游材料供應商、設備制造商,中游光刻膠生產企業,以及下游光刻膠產品應用企業都能從中受益。
排版:羅曉霞
校對:蘇煥文